Search academic texts

Information × Registration Number 0408U002272, Candidate dissertation Status к.х.н. Date 24-04-2008 popup.evolution o Title Compounds and composites of fluorides and oxides of Eu(III,II) and Mg, Al, Pb, Sc, Hf: interaction and optical properties Author Timukhin Iegor Volodymyrovych, popup.head Zinchenko Viktor Fedosiyovych popup.opponent Андрійко О.О. popup.opponent Доценко В.П. Description Об'єкт дослідження: системи EuF3(EuF2)-MFx(MOx/2) (х = 2-4, М = Mg, Al, Pb, Sc, Hf). Мета дослідження: одержання оптичних плівкоутворюючих матеріалів з поліпшеними оптичними й експлуатаційними властивостями на основі фторидів металів MFx (х = 2-4, М = Mg, Al, Pb, Sc, Hf) їх легуванням фторидом європію (III). Методи дослідження: термогравиметричний і диференційний термічний аналіз; рентгенівський фазовий аналіз; електронна спектроскопія дифузного відбиття й люмінесцентна спектроскопія; визначення магнітної сприйнятливості методом Фарадея; хімічний аналіз; термічне випаровування у вакуумі; спектрофотометрія й рефрактометрія тонкоплівкових покриттів; визначення механічної й термічної міцності покриттів. Теоретичні і практичні результати, новизна: з використанням радіусів іонів (з урахуванням координаційного числа), їх зарядів та іонності зв'зку запропоновано параметр для оцінки основності зв'язків метал-неметал для фторидів і оксидів, що дозволяє прогнозувати утворення складних сполук (фторидів, оксидів)і напрямок обмінних реакцій між фторидами й оксидами металів. Установлено, що взаємодія в системі EuF3-MgO відбувається за схемою обмінної реакції з утворенням MgF2 і оксофторидів європію різного складу.Установлено принципово різний характер процесів відновлення системи EuF3-MgF2 елементним силіцієм за відсутності й у присутності MgO з утворенням: у першому випадку - EuF2 і SiF4, а в другому -MgF2, EuF2, силікатів або фторосилікатів Eu(II), що використано для розробки методу визначення вмісту домішки MgO в MgF2. Виявлено явище видалення кисеньвмісних домішок завдяки окисно-відновній реакції у процесі термічного випаровування у вакуумі зразків систем EuF3-MFx, що дозволяє одержати тонкоплівкові покриття з винятково високими оптичними (коефіцієнт розсіювання на рівні 10-2-10-3%) і експлуатаційними (механічна міцність групи 0) властивостями. Сфера використання: неорганічна хімія Registration Date 2008-04-24 popup.nrat_date 2020-04-04 Close