Search academic texts

Information × Registration Number 0410U006275, Candidate dissertation Status к.т.н. Date 07-12-2010 popup.evolution o Title The nanocrystalline silicon thin films, doped with europium and yttrium, for optoelectronics Author Koval Viktoriya Mikhaylivna, popup.head Shmyryeva Alexandra Nikolaevna popup.head Borisov Alexandr Vasilyevich popup.opponent Вербицький Володимир Григорович popup.opponent Гусєв Володимир Олександрович Description Робота присвячена розробці технології отримання тонких плівок нанокристалічного кремнію, легованого європієм та ітрієм, а також гетеропереходів на їх основі для оптоелектроніки. Було проведено моделювання впливу нанокристалітів та домішок рідкоземельних металів на зонну будову та електропровідність матеріалу, а також показано їх вплив на фоточутливі характеристики фотоприймачів, що забезпечило теоретичне підгрунття у пошуку оптимальних технологічних режимів. За допомогою структурних та хімічних методів аналізу матеріалу встановлено зв'язок наноструктури та хімічного складу плівок з технологічними параметрами синтезу. В роботі було встановлено, що електропровідність та фоточутливість нанокристалічних кремнієвих плівок зростає при збільшенні степені кристалічності матеріалу, в той час як зростання УФ-чутливості спостерігається при зменшенні розмірів нанокристалітів. Встановлено зростання електропровідності, фото- та УФ-чутливості кремнієвої плівки при введенні до її складу домішків рідкоземельних металів. Також в роботі досліджувався вплив домішок РЗМ на величину фото-ЕРС гетеропереходів на основі плівок нанокристалічного кремнію. Було запропоновано технологічні режими, в яких фото- та УФ-чутливість фоторезисторів і фотодіодів, а також ефективність та стабільність фотоелектричних перетворювачів досягає максимальних значень. Registration Date 2010-12-07 popup.nrat_date 2020-04-04 Close