Search academic texts

Information × Registration Number 0413U005894, Candidate dissertation Status к.ф.-м.н. Date 24-10-2013 popup.evolution o Title Adsorption and diffusion of the IV, V group elements and oxygen on the Si(001) and Ge(001) surfaces at low coverages. Author Afanasieva Tatyana Viktorovna, popup.head Nakhodkin Mykola Grygorovych popup.opponent Браун Олег Михайлович popup.opponent Лобанов Віктор Васильович popup.opponent Федорус Олексій Григорович Description В дисертації досліджено механізм впливу адсорбції чужорідних атомів на властивості поверхонь кремнію та германію, які найчастіше використовуються в сучасній мікро- та наноелектроніці. В роботі досліджувались процеси адсорбції та коадсорбції атомів елементів V групи (As, Sb та Bi) та кисню на поверхні Si(001), дифузії аддимерів Bi на поверхні Si(001) та аддимерів Si, Ge на поверхні Ge(001), що застосовуються в процесах гетероепітаксії та впливають на хімічні властивості поверхні. Запропоновано модель взаємодії адатомів кисню з поверхнями Si(001), вкритих атомами металів V-групи (As, Sb та Bi). На основі цієї моделі пояснено залежність активності системи M/Si(001) відносно взаємодії з киснем. В роботі знайдено величини енергетичних бар'єрів елементарних актів дифузії аддимерів Si, Ge на поверхні Ge(001) та Bi на поверхні Si(001). Розраховані величини бар'єрів дифузії узгоджуються з величинами, що були отримані експериментально за допомогою скануючої тунельної мікроскопії. Registration Date 2013-10-24 popup.nrat_date 2020-04-04 Close