Search academic texts

Information × Registration Number 0499U003129, Candidate dissertation Status к.ф.-м.н. Date 25-11-1999 popup.evolution o Title The investigation of generation processes and annealing of thermodefects in silicon. Author Puzenko Olena Oleksandrivna, popup.head Крайчинський Анатолій Миколайович popup.opponent Бабич Вілік Максимович popup.opponent Данильченко Борис Олександрович Description Об'єктом дослідження був монокристалічний бездислокаційний кремній, вирощений методом Чохральського. Метою дисертаційної роботи було отримати нову інформацію про природу кисневих термодефектів в Si, визначити можливі шляхи підвищення термостабільності цього матеріалу. Визначення параметрів термодефектів проводились за допомогою кількох експериментальних методик: виміри ефекту Холла, DLTS (нестаціонарна спектроскопія глибоких рівнів), ЕПР (електронний парамагнітний резонанс), ІЧ-спектроскопія. В роботі досліджувались термодонори, які утворюються в Si при його термообробці при 4500С та 5300С, а також зміна внутрішніх пружних напружень гратки кремнію в ході термообробки при 10500С. Запропонована модель прискорення дифузії атомів кисню, яка дозволяє пояснити кінетику накопичення термодонорів-450. Результати свідчать про можливість впливу на генерацію термодонорів через вплив на мікронеоднорідність розподілу домішки кисню. Встановлений зв'язок між зміною внутрішніх пружних напружень гратки кремнію та тривал істю високотемпературної обробки при 10500С може бути використаний в планарній технології формування SiO2- гетерів. Registration Date 2001-04-04 popup.nrat_date 2021-03-17 Close