Search academic texts

Information × Registration Number 0508U000580, Doctoral dissertation Status д.ф.-м.н. Date 20-10-2008 popup.evolution o Title Structure, diffusion and the initial stages of phase formation in nanoscale multilayer metal-silicon systems at annealing and irradiation Author Zubaryev Yevgeniy Mikolayovich, popup.opponent Сидоренко Сергій Іванович popup.opponent Воєводін Віктор Миколайович popup.opponent Мацокін Вадим Павлович Description Об'єкт дослідження: багатошарові періодичні покриття Mo/Si і Sc/Si з високим ступенем періодичності і гладкості міжфазних меж поділу і періодом 4-35нм, нанесені на підкладки з полірованого кремнію методом магнетронного розпилення. Мета дослідження: встановлення закономірностей дифузії, структурних і фазових перетворень в багатошарових покриттях на основі Sc/Si і Mo/Si при виготовленні і на початкових стадіях термічної та радіаційної дії. Методи досліджень: рентгенівська дифрактометрія, рентгенівська тензометрія, рентгенівська малокутова дифракція, електронна мікроскопія з високим розділенням і растрова електронна мікроскопія. Результати: у процесі одержання багатошарових покриттів Mo/Si і Sc/Si на міжфазних межах поділу утворюються аморфні перемішані зони складу MoSi2 і ScSi, які продовжують рости на початку ізотермічного відпалу; переважним дифузантом є атоми кремнію, а реакція силіцидоутворення відбувається на межі метал-силіцид; при опроміненні багатошарових покриттів Mo/Si іонами He+ і Ar+ малимидозами товщина перемішаних зон збільшується лінійно з дозою опромінення, а їх середній атомний склад відповідає сплаву складу MoSi8.2 і MoSi3.9, відповідно; наведено результати детального вивчення структурних перетворень в багатошарових покриттях Sc/Si, опромінених імпульсами рентгенівського лазеру. Галузь застосування: фізика твердого тіла, нанофізика і нанотехнології. Registration Date 2008-10-20 popup.nrat_date 2020-04-04 Close