Search academic texts

Information × Registration Number 2107U000592, Article popup.category Стаття Title popup.author popup.publication 01-01-2007 popup.source_user Сумський державний університет popup.source http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/570 popup.publisher Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова НАН Украины Description Теоретично проаналізовано провідність тонкої плівки з моно- та полікристалічною структурою, на одну із поверхонь якої нанесено дифундуючий ультратонкий шар іншого металу. Одержано точні та асимптотичні формули для коефіцієнта провідности і виконано докладний чисельний розрахунок залежності величини о від часу дифузійного відпалювання за різних значень параметрів, які характеризують структуру зразка. Показано, що зміна провідности моно- та полікристалічного шару металу після дифузійного відпалу дає змогу дослідити власне процес об`ємної та зерномежової дифузії, визначити ефективну глибину проникнення атомів домішок в об`єм зразка і уздовж міжкристалічних меж та оцінити коефіцієнти об`ємної та зерномежової дифузії. // Русск. версия: Теоретически проанализирована проводимость о тонкой пленки с моно- и поликристаллической структурой, на одну из поверхностей которой нанесен диффундирующий ультратонкий слой другого металла. Получены точные и асимптотические выражения для коэффициента электропроводности и проведен детальный численный анализ зависимости величины а от времени диффузионного отжига для различных значений параметров, характеризующих структуру образца. Показано, что изменение свойств проводимости моно- и поликристаллического слоя металла после диффузионного отжига позволяет исследовать сам процесс объемной и зернограничной диффузии, определить эффективную глубину проникно¬вения атомов диффузата в объем образца и вдоль межкристаллитных гра¬ниц и оценить коэффициенты объемной и зернограничной диффузии. The electrical-transport properties of thin single-crystal and polycrystalline metal films coated with an ultra-thin metallic layer of diffusing impurities are theoretically investigated. Analyzing changes of the electrical conductivity caused by the diffusion annealing, we investigate the processes of the bulk diffusion and the grain-boundary diffusion. Both the effective penetration depth of the diffusing atoms into the bulk of a sample and the penetration depth along the grain boundaries may be determined; the coefficients of bulk and grain-boundary diffusions may be estimated. The electrical conductivity is calculated within our model, and numerical analysis of the diffusion-annealing time dependence at various parameters is performed. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/570 popup.nrat_date 2025-05-12 Close