Search academic texts

Information × Registration Number 2125U001232, Article popup.category Бакалаврська робота Title popup.author popup.publication 01-01-2025 popup.source_user Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» popup.source https://ela.kpi.ua/handle/123456789/74496 popup.publisher Київ Description Дипломна робота присвячена дослідженню початкових стадій аморфізації границь розділу в тонкоплівкових композиціях Ni/Ti з різним періодом модуляції у вихідному стані та за умов низькотемпературного нагріву до 150 °С. Для досягнення поставленої мети обʼєктами дослідження є багатошарові нанорозмірні плівкові композиції Ni/Ti з періодами модуляції 20 нм, 30 нм та 60 нм, з загальною товщиною 60 нм, осаджені на підкладку Si(001) методом радіочастотного магнетронного розпорошення. Для визначення структурних та електрофізичних властивостей, напруженого стану використано рентгеноструктурний фазовий аналіз, рентгенографічний аналіз залишкових напружень, in-situ чотирьохзондову резистометрію. Показано, що метод чотирьохзондової резистометрії є ефективним способом аналізу початкових стадій аморфізації границь розділу в тонких плівках Ni/Ti. Встановлено, що зменшення періоду модуляції призводить до зменшення температурного коефіцієнту опору в результаті формування аморфного прошарку. Отримані результати можуть бути використані при розробці функціональних матеріалів для мікро- та наноелектромеханічних систем і нейтронної оптики. popup.nrat_date 2025-08-18 Close