Search academic texts

Information × Registration Number 0212U006783, 0111U008998 , R & D reports Title Research of processes plasma chemistry and chtmical vapor deposition restoration metaine connections in the environment of active and inert gases. Synthesis and division of fluorides of metals and their connections. popup.stage_title Head Shirokov Boris Mikhajlovich, Доктор технічних наук Registration Date 10-07-2012 Organization National Science Center "Kharkiv Institute of Physics and Technology popup.description2 Features of obtaining of layers of tungsten, WRe and WTa alloys are investigated by a plasma chemical method (CVD-ICP). It was shown, that application of the induction high-frequency discharge allows conducting deposition process at lower temperatures of a substrate with higher speed. The growth kinetic of plasma chemical deposition of layers was investigated. Depend-ence of speed of deposition on process key parameters (substrate temperature, partial pressure of the reagents, and power of the discharge) is studied. It is established also, that energy of acti-vation for plasma chemical process was lower, than for CVD-process Product Description popup.authors Бакай Катерина Сергеевна Глушко Павло Іванович Дериземля Анатолій Миколайович Журавльов Олександр Юрьевич Зуєва Татьяна Миколаевна Капустін Віталій Леонідович Крохмаль Сергей Олександрович Мартиненко Віктор Григорович Осипов Олександр Давидович Патокін Олександр Петрович Пелипець Юрий Олександрович Радченко Володимир Іванович Семенов Микола Олександрович Стригуновський Сергей Олександрович Суща Аліна Анатольевна Хованський Микола Олександрович Шеремет Володимир Іванович Широков Борис Михайлович Шиян Олександр Васильович Щербакова Валентина Володимирівна popup.nrat_date 2020-04-02 Close