Search academic texts

Information × Registration Number 0405U000448, Candidate dissertation Status к.т.н. Date 31-01-2005 popup.evolution o Title Phase formation regularities and thermal stability of the nickel silicide phase NiSi in thin film systems Co-Ni, Ni-Ti, Ni-Si on silicon monocrystals Author Verbitska Tetyana Ivanivna, popup.head Sidorenko Sergiy Ivanovich popup.opponent Дворіна Людмила Андріївна popup.opponent Белоус Михайло В'ячеславович Description Дисертація присвячена визначенню закономірностей формування фазового складу і структури внаслідок термічно-активованих твердотільних реакцій та інтервалів термічної стійкості силіциду нікелю NiSi у тонкоплівкових системах Co, Ni, Co-Ni, Ni-Tі та у багатошарових плівкових нанорозмірних системах Ni/Si/Ni/Si…, Co/Si/Co/Si…, Ni/Tі/Ni/Ti… на монокристалах кремнію. Ключові слова: багатошарові плівки, аморфний стан, фаза, відпал, силіцид, підкладка, структура. Registration Date 2005-01-31 popup.nrat_date 2020-04-04 Close