Search academic texts

Information × Registration Number 0408U001324, Candidate dissertation Status к.ф.-м.н. Date 17-03-2008 popup.evolution o Title The structure, kinetics of growth and properties of borides and boridonitrides of the vanadium and tantalum thin films Author Petuhov Vadim Viktorovich, popup.head Goncharov Oleksadr Andriyovich popup.opponent Ажажа Володимир Михайлович popup.opponent Азарєнков Микола Олексійович popup.opponent Литвиненко Володимир Вікторович Description Об'єкт: плівки, одержані за допомогою метода ВЧ-магнетронного розпилення мішеней VB2 і ТаВ2 нереактивним та реактивним методами. Мета: вирішення задачі по встановленню фізичних процесів щодо формування структури, складу і фізико-механічних властивостей плівкових покриттів, що утворюються в системах V-B-N і Та-В-N. Методи: комп'ютерне моделювання за методом Монте-Карло, просвічувальна електронна мікроскопія, рентгенівська дифрактометрія, вторинна іонна мас-спектрометрія, ІЧ-спектрометрія, вимірювання мікротвердості, наноіндентування. Результати: визначено оптимальний інтервал осадження плівок VB2 і ТаВ2, що забезпечує одержання максимальних за товщиною плівок зі складом, близьким до стехіометричного. Визначено вплив режимів розпилення на зміни характеристик потоку часток, що конденсуються. Визначено характер впливу зміни співвідношення реактивного (азот) і робочого (аргон) газів на процеси фазоутворення і зростання досліджених плівок. Досліджено і пояснено механізм нітридизації мішені VB2 в середовищі "аргон + азот", що приводить до відсутності боридних фаз в одержаних плівках. Запропоновано спосіб одержання багатошарових боридних і нітридних структур перехідних металів із заданими фізико-механічними властивостями, в одному технологічному циклі, використовуючи одну мішень. Галузь застосування: фізика твердого тіла, мікроелектроніка, машинобудування Registration Date 2008-03-17 popup.nrat_date 2020-04-04 Close