Search academic texts

Information × Registration Number 0409U000578, Candidate dissertation Status к.ф.-м.н. Date 23-01-2009 popup.evolution o Title Structural relaxation of nanosized Та2О5 films grown on the p-Si substrates induced by microwave treatment Author Shynkarenko Volodymyr Viktorovych, popup.head Konakova Raisa Vasiljevna popup.opponent Лисенко Володимир Сергійович popup.opponent Горбик Петро Петрович Description Дисертація присвячена дослідженню атермічного впливу мікрохвильового опромінення на МДН структури з Та2О5 плівками. Розглянуто вплив НВЧ обробки в залежності від технологічних аспектів створення структур. В роботі розвивається перспективний напрямок фізики твердого тіла, пов'язаний як з направленим технологічним відпалом МДН структур, так і зі збільшенням їх стійкості до НВЧ опромінення. Вперше було виявлено немонотонні зміни електрофізичних та структурних параметрів МДН структур з плівками Та2О5 під впливом мікрохвильового опромінення частотою 2,45 ГГц та визначено оптимальний діапазон часу експозиції. Показано, що дані зміни впливають перш за все на межу розділу діелектрик-напівпровідник. Перевірено та підтверджено припущення про те, що зменшення внутрішніх механічних напруг в цій області приводить до підвищення стійкості МДН структур. Для зменшення внутрішніх механічних напруг було використано легування плівки Та2О5 титаном. Registration Date 2009-01-23 popup.nrat_date 2020-04-04 Close