Registration Number
2117U007838, Article
popup.category
Стаття
Title
Defining the critical parameters of the electron beam with surface melting of the optical elements of precision instrumentation (AI translated)
popup.author
Яценко Ірина В'ячеславівна
Антонюк Віктор Степанович
Гордієнко Валентин Іванович
Ващенко Вячеслав Андрійович
Кириченко Оксана В'ячеславівна
Yatsenko Iryna V'yacheslavivna
Antoniuk Viktor Stepanovych
Hordiienko Valentyn Ivanovych
Vashchenko Vyacheslav Andriiovych
Kyrychenko Oksana V'yacheslavivna
popup.publication
01-01-2017
popup.source_user
Черкаський державний технологічний університет
popup.source
https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4216
popup.publisher
Journal of Nano- and Electronic Physics
Description
Розроблено математичні моделі глибокого оплавлення елементів з оптичного скла при дії електронного променю. Проведено розрахунки товщини оплавленого шару і швидкостей руху поверхні розділу фаз в залежності від параметрів електронного променю (густини та часу його теплового впливу). Встановлено, що при зміні густини теплового впливу променю в діапазоні 7∙106...8,5∙108 Вт/м2 і збільшенні часу його впливу до 14 с товщина оплавленого шару може досягати 300...500 мкм. Визначено критичні значення параметрів електронного променю, перевищення яких призводить до порушення площинності оптичних елементів, зміни їх геометричної форми і погіршення техніко-експлуатаційних характеристик приладів, аж до їх виходу з ладу.
Mathematical model of deep melting elements made of optical glasses under the influence of the electron beam. The calculations of the thickness of the melted layer and the velocities of the interface depending on the parameters of electron beam (density and time of thermal influence). It is established that when the thermal change in the density of influence of the beam in the range of 7∙106...8,5∙108 W/m2 and increasing duration of exposure up to 14 s with the thickness of the melted layer can reach 300...500 m. We calculated critical parameters of the electron beam, the exceeding of which leads to disruption of the flatness of the optical elements, changing their geometrical shape and deterioration of technical and operational characteristics of the devices until they exit their building.
popup.nrat_date
2026-04-27
