Registration Number
2121U009116, Article
popup.category
Стаття
Title
Electronic Beam Technology in Optoelectronic Instrumentation: High-quality curved surfaces and microprofile creation in different geometric shapes (AI translated)
popup.author
Yatsenko Irina
Maslov Vladimir
Antonyuk Victor
Vashchenko Vyacheslav
Kyrychenko Oksana
Yatsenko Kateryna
Яценко Ірина В'ячеславівна
Ващенко Вячеслав Андрійович
Яценко Катерина
Yatsenko Irina
Maslov Vladimir
Antonyuk Victor
Vashchenko Vyacheslav
Kyrychenko Oksana
Yatsenko Kateryna
Yatsenko Iryna V'yacheslavivna
Vashchenko Vyacheslav Andriiovych
Yatsenko Kateryna
popup.publication
01-01-2021
popup.source_user
Черкаський державний технологічний університет
popup.source
https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4222
popup.publisher
Journal of Nano- and Electronic Physics
Description
The curved surface treatment method of optical elements and functional microprofile creation of different geometric shapes using the system of fixed single electron beams by optimizing the technological parameters of installation (the number of beams, their currents, accelerating voltages and distances to the
processed surfaces) is developed. This method allows to create various microoptic parts for optoelectrical
devices. The method is based on the practically implemented schemes of location of single electron beam
system that influence curved surfaces of optical elements. According to the developed method, the implementation task was solved using discretely located fixed sources of gaussian type thermal influence with
different amplitudes (maximum values of electron beam heat density) and focus factors influencing the
processed surfaces of optical elements. At the same time, the impact control of such sources is carried out
automatically using microprocessor equipment. It is shown that while increasing the number of electron
rays (up to 50…70), you can get high accuracy of (relative error up to 10 – 4…10 – 5) compliance with the
specified complex distributed thermal influences along the processed both flat and curved optical elements
necessary for the creation of functional microprofiles on their surfaces of a given geometric shape. At present, due to technical difficulties that appear, it is impossible to effectively manage a large number of
beams (more than 10...15) However, reducing their number (for example, up to 5...7), it is possible to implement these distributed heat influences with an acceptable accuracy in practice (relative error does not
exceed 3...5 %).
Розроблено метод обробки криволінійних поверхонь оптичних елементів та створення на них функціональних мікропрофілей різної геометричної форми за допомогою системи нерухомих одиничних електронних променів шляхом оптимізації технологічних параметрів установки (кількості променів, їх струмів, прискорюючихнапруг та відстаней до оброблюваних поверхонь), що дозволяє створювати різні мікрооптичні деталі для оптико-електронних приладів. В основу методу покладені реалізовані на практиці схеми розташування системи одиничних електронних променів, що діють на криволінійні поверхні оптичних елементів. Згідно розробленого метода задача реалізації вирішувалась за допомогою дискретно розташованих нерухомих джерел теплового впливу гаусівського типу з різними амплітудами (максимальні значення густини теплового впливу електронних променів) та коефіцієнтами зосередженості , що діють на оброблювані поверхні оптичних елементів. При цьому керування впливом таких джерел здійснюється автоматично з використанням мікропроцесорної техніки. Показано, що збільшуючи кількість електронних променів (до 50…70) можна отримати високу точність (відносна похибка до 10 – 4…10 – 5) відповідності заданим складним розподіленим тепловим впливам вздовж оброблюваних як плоских, так й криволінійних оптичних елементів, необхідних для створення функціональних мікропрофілей на їх поверхнях заданої геометричної форми. Нині внаслідок технічних труднощів, які вникають, неможливо здійснювати ефективне керування великою кількістю променів (більше 10…15) Однак, зменшуючи їх кількість (наприклад, до 5…7), можна реалізовувати вказані розподілені теплові впливи з прийнятною на практиці точністю (відносна похибка не перевищує 3…5 %)
popup.nrat_date
2026-04-27
