Search academic texts

Information × Registration Number 2123U003356, Article popup.category Бакалаврська робота Title popup.author Гаврилів Михайло Віталійович popup.publication 01-01-2023 popup.source_user Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» popup.source https://ela.kpi.ua/handle/123456789/58986 popup.publisher Київ Description Об’єкт досліджень: тонкоплівкові композиції Ni/Cu/Cr з товщиною кожного шару 25 нм, осаджені на підкладки монокристалічного кремнію методом магнетронного розпорошення. Предмет дослідження: зміни структури, фазового та хімічного складу тонкоплівкових систем під час низькоенергетичного йонного опромінення. Мета роботи: встановлення впливу енергії, густини струму та тривалості низькоенергетичного йонного опромінення на структуру, фазовий та хімічний склад нанорозмірних систем Ni/Cu/Cr. Методи дослідження: рентгеноструктурний аналіз, Оже-електронна спектроскопія, скануюча електронна мікроскопія. Результати досліджень та їх новизна: Встановлено, що фазовий склад вихідної системи не змінюється за всіх використаних режимів йонної обробки. Визначено, що збільшення густини йонного струму з 4 мкА до 8⁠ мкА обумовлює більш інтенсивне розпорошення верхнього шару Ni, зменшення розміру його зерна, а також підвищення концентрації в проміжному шарі Cu. Встановлено, що підвищення енергії йонного пучка з 800 еВ до 1400 еВ призводить до утворення структурних дефектів в проміжному шарі. Показано, що для модифікації досліджуваних наноматеріалів більш доцільним є проведення йонної обробки з меншою енергією та більшою густиною струму. popup.nrat_date 2025-01-29 Close