Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0212U000505, 0110U004717 , Науково-дослідна робота Назва роботи Розробка наукових основ і технології одержання надтвердих (вище 40 ГПа) наноструктурних покриттів товщиною більше 4 мкм на основі нітридів: визначення умов і параметрів нанесення покриттів Назва етапу роботи Керівник роботи Андреєв Анатолій Опанасович, Доктор технічних наук Дата реєстрації 16-02-2012 Організація виконавець Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" НАН України Опис етапу Звіт по НДР містить 82 сторінки, 9 таблиць, 34 рисунки, 44 посилання. Метою робіт було визначення умов і параметрів нанесення надтвердих (вище 40 ГПа) наноструктурних покриттів товщиною більше 4 мкм на основі нітридів, а також розробка і виготовлення інфрачервоного пірометра для визначення температури підкладки у процесі нанесення надтвердих покриттів. Об'єктом дослідження є надтверді наноструктурні покриття товщиною більше 4 мкм на основі нітридів, а також пірометр для вимірювання температури підкладки. Були досліджені TіN покриття, одержані з використанням іонної імплантації, тобто при подачі на підкладку в процесі осадження одночасно постійного негативного потенціалу -5…-400 В і високовольтних імпульсів тривалістю 10 мкс, частотою 7 кГц і амплітудою -2 кВ (метод PBIID). Звичайні TіN покриття, одержані без іонної імплантації і при потенціалі підкладки -230 В, який забезпечує температуру близько 450…500°С, показали твердість 25…27 ГПа. При більш низьких температурах підкладки покриття TіN мають недостатні фізико-механічні характеристики або не осаджуються зовсім. Покриття, осаджені з іонною імплантацією, показали твердість 41…68 ГПа. Оцінка розмірів кристалітів з ширини рентгенівських ліній дає значення 20…30 нм. Покриття зберігають надвисоку твердість в інтервалі потенціалів підкладки від - 5 В до -400 В, при цьому температура підкладки може змінюватися відповідно від 105 °С до 465 °С. Покриття, одержані з імплантацією, мають надвисоку твердість в діапазоні тиску від 0,01 Па 0,665 Па, при цьому спостерігається тенденція до досягнення максимуму твердості покриттів в інтервалі тиску азоту 0,4…0,5 Па. При зберіганні при кімнатній температурі протягом 12 місяців твердість покриттів знижувалася від 62…68 ГПа до 58…62 ГПа. Покриття TіN, нанесені при відносно низьких (140…200 °С) температурах, прийнятних для нанесення покриттів на інструменти із загартованих конструкційних і малолегованих сталей, показують високу зносостійкість. Покриття TіN при таких температурах без імплантації не осаджуються або непрацездатні. Ключові слова: нітрид титану, наноструктурні покриття, іонна імплантація, багатошарові покриття, структура, зносостійкість, надвисока твердість. Опис продукції Були досліджені TіN покриття, одержані з використанням іонної імплантації, тобто при подачі на підкладку в процесі осадження одночасно постійного негативного потенціалу -5…-400 В і високовольтних імпульсів тривалістю 10 мкс, частотою 7 кГц і амплітудою -2 кВ (метод PBIID).Покриття, осаджені з іонною імплантацією, показали твердість 41…68 ГПа. Оцінка розмірів кристалітів з ширини рентгенівських ліній дає значення 20…30 нм. Покриття зберігають надвисоку твердість в інтервалі потенціалів підкладки від- 5 В до -400 В, при цьому температура підкладки може змінюватися відповідно від 105 С до 465 С. Покриття, одержані з імплантацією, мають надвисоку твердість в діапазоні тиску від 0,01 Па 0,665 Па, при цьому спостерігається тенденція до досягнення максимуму твердості покриттів в інтервалі тиску азоту 0,4…0,5 Па. При зберіганні при кімнатній температурі протягом 12 місяців твердість покриттів знижувалася від 62…68 ГПа до 58…62 ГПа. Покриття TіN, нанесені при відносно низьких (140…200 С) температурах, прийнятних Автори роботи Андреєв Анатолій Опанасович Гугля Олексій Григорович Картмазов Геннадій Миколайович Китаєвський Костянтин Михайлович Мартиненко Людмила Іванівна Немашкало Ольга Вікторівна Павленко Любов Іванівна Пешков Вадим Георгійович Пономаренко Тетяна Олександрівна Рижова Тетяна Петрівна Руденко Віталій Павлович Савченко Володимир Якович Сердюк Ірина Віталіівна Столбовий В'ячеслав Олександрович Ступак Римма Іванівна Фурсов Сергій Сергійович Чікрижов Олександр Михайлович Черноіванов Євген Шелахаєв Володимир Іванович Шепелєв Анатолій Георгійович Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити
НДДКР ОК
Керівник: Андреєв Анатолій Опанасович. Розробка наукових основ і технології одержання надтвердих (вище 40 ГПа) наноструктурних покриттів товщиною більше 4 мкм на основі нітридів: визначення умов і параметрів нанесення покриттів. (Етап: ). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" НАН України. № 0212U000505
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-17