Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0225U004702, (0121U110102) , Науково-дослідна робота Назва роботи Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні. Назва етапу роботи Розробка технології та спеціалізованого обладнання для реалізації методом CVD процесу нанесення Та-покриттів (до 250мкм) на бокову поверхню нейтроноутворюючих вольфрамових елементів мішені для установки «Джерело нейтронів». Керівник роботи Руденький Сергій Георгійович, Доктор технічних наукСтолбовий В'ячеслав Олександрович, Дата реєстрації 17-12-2025 Організація виконавець Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України Опис роботи Метою робіт є розробка захисних покриттів для забезпечення можливості функціонування виробів при підвищених температурах і впливі руйнуючих зусиль. Підвищення робочої температури парових турбін, що збільшить їх коефіцієнт корисної дії, сприятиме поліпшенню конкурентоспроможності виробів, вироблених в нашій країні. Це деталі парових турбін, які працюють при температурі 520°С, а необхідно підвищити цю температуру до величини 650°С, а також бажано збільшити міжремонтні терміни. Розробка жаростійких покриттів для захисту камер згоряння реактивних двигунів малої тяги, виготовлених із ніобієвих сплавів і ВВКМ. Опис етапу Звіт про НДР: 40 сторінок, 13 рисунків, 3 таблиці, 16 посилань. У роботі представлені результати експериментів щодо осадження шарів танталу на поверхню модельних зразків методом термічного розкладання пентахлориду танталу у вакуумі. У якості підкладок використовувалися зразки з графіту марки АРВ розміром 50х19х3 мм та вольфрамових пластин – 50х10х0,3мм. Здійснено осадження шару танталу при температурах підкладки 1200 ºС – 1500 ºС. Тривалість процесу термічного розкладання металовмісних сполук у всіх експериментах становило 30 хвилин. Металографічні дослідження показали, що покриття на вуглецевих та металевих підкладках є щільним, не містить пор та має гарну адгезію. Отримано модельні зразки, захищені шаром танталу товщиною 20 мкм. Швидкість осадження танталового шару становила 40 мкм/год при виході металу 15,16%. Реалізовано осадження танталового покриття завтовшки 20 мкм на вольфрамові підкладки. У процесі отримання покриттів Та зразки нагрівалися до 1500°С, а контейнер з пентахлоридом танталу при цьому нагрівався до температури 100°С. В результаті проведення цього процесу було досягнуто швидкість осадження шару танталу 40 мкм/год при виході металу 20%. Одержано експериментальні пластини з танталовим покриттям від 10 до 250 мкм. Опис продукції Автори роботи Сердюк Ірина Віталіївна Руденький Сергій Георгійович Столбовий В'ячеслав Олександрович Андреєв Анатолій Опанасович Кунченко Юрій Вікторович Рижова Тетяна Петрівна Серченко Марина Павлівна Мартиненко Людмила Іванівна Корнєєв Олександр Олександрович Соловіченко Юрій Михайлович Ляшенко Ігор Андрійович Бредіхін Михайло Юрійович Коновалов Ігор Іванович Кунченко Олексій Вікторович Лукирський Юрій Валентинович Маринін Володимир Григорович Павленко Володимир Іванович Рак Василь Ілларіонович Мирошниченко Костянтин Вікторович Коваленко Володимир Іванович Баранков Михайло Якович Гетман Валентина Федорівна Змій Віктор Іванович Поляков Юрій Іванович Кривошапка Руслан Васильович Ільченко Нора Сосівна Додано в НРАТ 2025-12-17 Закрити
НДДКР ОК
Керівник: Руденький Сергій Георгійович. Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.. (Етап: Розробка технології та спеціалізованого обладнання для реалізації методом CVD процесу нанесення Та-покриттів (до 250мкм) на бокову поверхню нейтроноутворюючих вольфрамових елементів мішені для установки «Джерело нейтронів».). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0225U004702
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-16