Registration Number
2114U009395, Article
popup.category
Стаття
Title
Optical axonometric plasma-chemical control method processes in microelectronic technology
popup.author
Кравченко Ю. С.
Селецька О. О.
Селецкая Е. А.
Kravchenko Y. S.
Seletska O. O.
Kravchenko Y. S.
Seletska O. O.
popup.publication
01-01-2014
popup.source_user
Вінницький національний технічний університет
popup.source
http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/9110
popup.publisher
Хмельницький національний університет
Description
На прикладі плазмохімічного травлення стуктур р-Si/SiO2/Si проаналізовані можливості і перспективи використання оптичного актиметричного методу контролю плазмохімічного травлення при виготовленні приладів сучасної мікро- та наноелектроніки. Наведені результати експериментальних досліджень процесу травлення мікроструктур. Показано, що застосування в процесі моніторингу процесу плазмового травлення фазового детектування сигналу дозволяє значно зменшити шумову його складову і дає практичну можливість використовувати оптичний актинометричний метод для контролю процесу травлення малих площин
popup.nrat_date
2026-11-02
