Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0223U002169, 0122U001695 , Науково-дослідна робота Назва роботи Фізичні основи технологічних застосувань низькотемпературної плазми Назва етапу роботи Керівник роботи Анісімов Ігор Олексійович, Доктор фізико-математичних наук Дата реєстрації 11-02-2023 Організація виконавець Київський національний університет імені Тараса Шевченка Опис етапу Об’єкт дослідження – плазмові струмені з мультидисперсною фазою. Рівноважна плазма електродугового розряду з домішками парів металів. Послідовність електронних згустків, що рухаються в плазмі. Насіння рослин, уміщене в низькотемпературну плазму. Вторинний розряд атмосферного тиску, що підтримується газодинамічним обертовим ковзним розрядом. Мета роботи – дослідження фізичних процесів у розрядній та комплексній плазмі різних типів з метою її подальшого застосування для різноманітних технологічних потреб. Методи дослідження – метод спектроскопічного дослідження плазми, комп’ютерне моделювання плазми, аналітичні розрахунки, зондовий метод дослідження параметрів плазми. Виконано моделювання плазмових струменів з мультидисперсною фазою. Модернізовано методики спектроскопічного дослідження плазми електродугового розряду. Здійснена модернізація програмного пакету для моделювання збудження кільватерних хвиль електронними згустками в магнітоактивній плазмі. Впроваджена зондова методика дослідження вторинного розряду атмосферного тиску. Запропонована методика обробки насіння рослин низькотемпературною плазмою поперечного розряду.  Опис продукції Автори роботи Білик Леонід Михайлович Веклич Анатолій Миколайович Костюкевич Олександр Миколайович Кравченко Олександр Іванович Левада Галина Іванівна Лендєл Іван Володимирович Марущак Іван Сергійович Мурманцев Олександр Олександрович Недибалюк Олег Анатолійович Тарасенко Богдан Вітальович Телега Володимир Миколайович Цимбалюк Олександр Миколайович Черняк Валерій Якович Юхименко Віталій Васильович Юхименко Костянтин Васильович Додано в НРАТ 2023-02-11 Закрити
НДДКР ОК
Керівник: Анісімов Ігор Олексійович. Фізичні основи технологічних застосувань низькотемпературної плазми. (Етап: ). Київський національний університет імені Тараса Шевченка. № 0223U002169
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-28