Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2122U001835, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи Influence of the Surface Diffusion Length on the Roughness of Thin Layers Obtained by Random Deposition Автор Дата публікації 01-01-2022 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/89862 Видання Sumy State University Опис У роботі описано теоретичну модель з використанням програмного забезпечення MATLAB, яка описує вплив довжини поверхневої дифузії D на топографію та динаміку росту тонких шарів, отриманих шляхом випадкового осадження. Одержані результати показують, що поверхня інтерфейсу стає більш гладкою при більшій довжині дифузії D. Для D > 0 показник росту β змінюється відповідно до двох різних режимів, β1 = 0,5 представляє повністю випадковий режим росту, а показник β2 представляє режим дифузії частинок у напрямку до пустот, β2 зменшується зі збільшенням D. Шорсткість інтерфейсу ніколи не насичується при нульовій довжині дифузії, тоді як показник шорсткості приймає нижче значення приблизно α = 0,1450 при D = 4. Нарешті, коефіцієнти масштабування β, α та z безпосередньо залежать від довжини дифузії D і не пов'язані з розміром підкладки L. Отримані результати узгоджуються з іншими попередніми теоретичними та експериментальними роботами. This work identifies a theorical model using the MATLAB software that represents the effect of the surface diffusion length D on the topography and growth dynamics of thin layers obtained by random deposition. The obtained results show that the interface roughness becomes smoother at higher diffusion lengths D. For D > 0, the growth exponent β varies according to two distinct regimes, β1 = 0.5 presents a completely random growth regime and a constant β2 presents a diffusion regime of particles towards the hollows, which decreases with increasing D. The interface roughness will never saturate at zero diffusion length, while the roughness exponent takes a lower value of about α = 0.1450 at D = 4. Finally, the scaling exponents β, α and z directly depend on the diffusion length D and are not related to the substrate size L. The obtained results agree well with other previous theoretical and experimental works. Додано в НРАТ 2025-03-24 Закрити