Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0105U006824, ( 0207U000684  ) Науково-дослідна робота Назва роботи Формування епітаксійної межі поділу фаз Si-SiO2 та дослідження властивостей гідроксильного та гідратного покриву оксидної плівки Керівник роботи Чуйко Олексій Олексійович, Дата реєстрації 26-10-2005 Організація виконавець Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України Опис роботи Розробка методів формування молекулярно-променевого епітаксійного шару SiO2 на поверхні кристалічного силіцію, дослідження фізико-хімічних властивостей міжфазного переходу Si-SiO2 методами Оже-спектроскопії та іонізаційної спектрометрії, а також теоретичне (методами квантової хімії) з'ясування атомної конфігурації первинних хемосорбційних темплатів кисню та водню - прекурсорів гідроксильних та гідратних поверхневих фаз. Додано в НРАТ 2024-12-11 Закрити