Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0201U003669, 0100U003304 , Науково-дослідна робота Назва роботи Вивчення процесів плазмохімічного формування покриттів в умовах дії на поверхню конденсації потоків заряджених часток Назва етапу роботи Керівник роботи Сагалович В.В., Дата реєстрації 02-10-2001 Організація виконавець Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна Опис етапу Об'єкт дослідження — процеси формування покриттів при розпиленні металевих мішеней у сумішах інертного та реакційного газів. Мета роботи — попередній аналіз літературних даних по особливостям одержання покриттів реактивним методом з застосуванням магнетронних розпилюючих систем та підготовка експериментального обладнання для дослідження впливу потоків заряджених часток на процеси формування покриттів та їх властивості при магнетронному розпиленні металевих мішеней в сумішах інертного та реакційного газів. Метод дослідження — аналіз і узагальнення експериментального та теоретичного вивчення процесів одержання покриттів вакуум-плазмовими методами, зокрема, магнетронним розпиленням, і впливу умов формування на їх властивості. Проведено розгляд впливу загальних параметрів реактивного напилення вакуум-плазмовими методами на характеристики покриттів. На прикладі покриття Ti-N показана можливість його багатофункціонального застосування і пов'язані з цим вимоги до властивостей, які можуть задовольнятись шляхом керованої зміни його складу, структури і інших характеристик за рахунок відповідного вибору параметрів процесу напилення. Розглянуто особливості реактивного магнетронного напилення, а також результати досліджень, метою яких є вирішення загальної задачі одержання покриттів з наперед заданими властивостями, зокрема, забезпечення належної керованості і стабільності у часі процесів напилення. Наведено опис і обгрунтування експериментальної схеми, яку планується використати у дослідженнях впливу потоків заряджених часток на процеси реактивного формування, що включає магнетронну розпилюючу систему планарного типу і допоміжний вузол збудження ВЧІ розряду у проміжку між мішенню і підкладинкою. Результати НДР використані при підготовці експериментального обладнання і визначенні подальшого напрямку досліджень процесів магнетронного напилення покриттів. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити