Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0201U004828, 0197U003336 , Науково-дослідна робота Назва роботи Дослідження основ формування і властивостей об"єктів нанометрових розмірів на поверхні твердого тіла при керуванні адсорбційними властивостями поверхні Назва етапу роботи Керівник роботи Коваль І.П., Дата реєстрації 25-04-2001 Організація виконавець Київський національний університет імені Тараса Шевченка Опис етапу Отримані дані про склад та структуру практично важливих об'єктів нанометрових розмірів, що утворюються на атомно чистих поверхнях граней Si(100) та Si(111) з субмоношаровим покриттям сурфактанту. Запропоновано кінетичну модель, що описує різницю в характері накопичення кисню поверхнями Si(001) і Bi/Si(001). Комп'ютерне моделювання показало енергетично вигідні місця адсорбції кисню для поверхонь Si(001)/(As,Sb,Bi). Показано, що гідрогенізація поверхонь Si приводить до зміни механізму росту плівок Ві з формуванням нульвимірних об"єктів із характерною для об'ємного Ві густиною електронних станів біля EF. Розвинуто метод дослідження структури iз спектрів пружно відбитих електронів відносно багатокомпонентних матеріалів. Вдосконалено метод СТМ шляхом застосування надчутливих вістер, покритих Ві, для дослідження раніше недоступних атомів Si в кутових ямах на поверхні Si(111)7х7. З'ясовано, що ці атоми оточені великим дифузійним бар'єром і найменш активні при взаємодії з воднем Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити