Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0207U000684, 0105U006824 , Науково-дослідна робота Назва роботи Формування епітаксійної межі поділу фаз Si-SiO2 та дослідження властивостей гідроксильного та гідратного покриву оксидної плівки Назва етапу роботи Керівник роботи Лобанов Віктор Васильович, Дата реєстрації 31-01-2007 Організація виконавець Інститут хімії поверхні НАНУ Опис етапу Розроблено схему одержання атомарно чистих поверхонь Si(100) і Si(111) та визначені умови, за яких ці поверхні мають мінімальну кількість дефектів (ступіні, точкові й ін.). Досліджено процеси контрольованого окислювання поверхонь кремнію й утворення міжфазної границі Si-SiO2. Методом спектроскопії характеристичних втрат енергії електронів отримані порівняльні характеристики Si і SiO2 поверхонь. Виконані квантово-хімічні розрахунки послідовності стадії окислення грані (100) поверхні кремнію в наближенні функціоналу густини засвідчили про безбар'єрність усього процесу і дозволили визначити їх теплові ефекти. Обраховані частоти нормальних коливань хемосорбційних структур кисню на грані (100) дали можливість диференціювати їх структурні параметри. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити