Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0208U004848, 0106U002153 , Науково-дослідна робота Назва роботи Закономірності формування включень нових фаз на різних стадіях реактивної дифузії в тонкоплівкових наноструктурах Назва етапу роботи Керівник роботи Волошко Світлана Михайлівна, Дата реєстрації 23-12-2008 Організація виконавець Національний технічний університет України "Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського" Опис етапу Із залученням комплексу сучасних фізичних методів дослідження (рентгеноструктурний аналіз, електронографія, електронна оже-спектроскопія, вторинно-іонна мас-спектрометрія, електронно-зондовий аналіз, електронна мікроскопія тощо) та комп’ютерного моделювання встановлені закономірності процесів термостимульованої реактивної дифузії при формуванні включень нових фаз в багатошарових тонкоплівкових системах з шарами Cu, Cr, Fe, Ni, Ti нанометрової товщини (5 – 100 нм) під впливом термічної обробки при 723 К - 1273 К. Встановлений взаємозв’язок фазового, хімічного складу та структури з електрофізичними властивостями. Визначені загальні закономірності кінетики та механізмів масопереносу, зокрема, при інверсії матеріалів шарів та розроблено багатостадійну модель структурних та фазових перетворень, з’ясовано вплив зовнішньої поверхні на розвиток дифузійних процесів в об’ємі. Виявлено найбільш важливі фізичні характеристики, що визначають розглядувані процеси та одержано кількісні дифузійні параметри на основі запропонованих математичних моделей та результатів комп'ютерного моделювання. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-03 Закрити