Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0209U001973, 0105U001375 , Науково-дослідна робота Назва роботи "Дослідження стійкості захисних масок з нікелю в умовах плазмохімічного травлення напівпровідникових матеріалів в плазмі ВЧ-розряду з керованими магнітними полями" Назва етапу роботи Керівник роботи Борисенко Анатолій Григорович, Дата реєстрації 02-04-2009 Організація виконавець Інститут ядерних досліджень НАН України Опис етапу Проведені дослідження стійкості захисних покриттів з нікелю, отриманих методом електронно-променевого випаровування з додатковою іонізацією. Для експериментів було використано дослідний зразок реактора плазмохімічного травлення напівпровідникових матеріалів, розробленого в ІЯД НАНУ. Спеціфічною особливостю цього реактора є можливість регулювати величину енергії іонів плазми, які взаємодіють з поверхнею дослідних зразків. Плазмохімічне травлення проводилося в плазмі елегазу (SF6) з домішками інших газів , потужності основного ВЧ-генератора <1000 Вт, тиску робочої речовини в розрядній камері 5 х 10-2 мм рт. ст. Встановлено, що використовуючи метод електронно-променевого випаровування з додатковою іонізацією можна отримувати захисні маски з Ni, які, в умовах плазмохімічного травлення Si мають швидкість стравлювання майже в 2 рази меньшу ніж нікелеві захистні маски, отримані методом магнетронного напилення. Захистні плівки,отримані за вказаною технологіє, достатньо стійкі за умови коли енергія іонів не перевищує 200 еВ. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити