Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0210U004180, 0108U009662 , Науково-дослідна робота Назва роботи Модернізація технологічної дільниці піролітичних процесів. Модернізація установки осадження з парогазової фази при низькому тиску (LP CVD) "Изотрон 2М" для нанесення епітаксіальних плівок SiGe та Si. Назва етапу роботи Керівник роботи Сидоренко Володимир Павлович, Дата реєстрації 17-03-2010 Організація виконавець Державне підприємство "Науково-дослідний інститут мікроприладів" НТК "Інститут монокристалів" НАН України Опис етапу Виконані роботи по відновленню працездатності і модернізації установки "Изотрон-2М", призначеної для виробництва виробів електроніки при проведенні процесів осадження шарів кремнію та нітриду кремнію при пониженому тискові з використанням концентрованих реагентів силану і дихлорсилану на пластини діаметром до 100 мм в реакторах електропечі. В результаті модернізації установки забезпечена можливість осадження полікристалічного кремнію різних товщин і вирощування епітаксійних плівок SiGe та Si. Опис продукції Установка для вирощування плівок при виготовленні електронних приладів та інтегральних схем Автори роботи Євтух Анатолій Антонович Рижков Володимир Михайлович Сидоренко Володимир Павлович Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити
НДДКР ОК
Модернізація технологічної дільниці піролітичних процесів. Модернізація установки осадження з парогазової фази при низькому тиску (LP CVD) "Изотрон 2М" для нанесення епітаксіальних плівок SiGe та Si.
Керівник: Сидоренко Володимир Павлович. Модернізація технологічної дільниці піролітичних процесів. Модернізація установки осадження з парогазової фази при низькому тиску (LP CVD) "Изотрон 2М" для нанесення епітаксіальних плівок SiGe та Si.. (Етап: ). Державне підприємство "Науково-дослідний інститут мікроприладів" НТК "Інститут монокристалів" НАН України. № 0210U004180
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-15


Роздрукувати цю сторінку