Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0212U000038, 0111U002622 , Науково-дослідна робота Назва роботи Розроблення плазмової технології осадження наноструктурованих шарів нітридів алюмінію та бору для захисту поверхні НВЧ приладів Назва етапу роботи Керівник роботи Заяць Микола Сергійович, Дата реєстрації 06-01-2012 Організація виконавець Інститут фізики напівпровідників імені В.Є.Лашкарьова НАН України Опис етапу В результаті виконання II-го етапу проекту методом високочастотного магнетронного розпилення (установка "Катод-1М ") були виготовленні експериментальні зразки наноструктурованих шарів BN та AlN на кремнієвих та кварцових підкладках. Досліджено морфологію поверхні та оптичні властивості плівок AlN/n-Si (111) (спектри відбивання в діапазоні 200-750 нм, спектри відбивання в діапазоні 1,4 - 25 мкм). Отримане значення показника заломлення плівок AlN/n-Si (111) в діапазоні довжин хвиль 505-675 нм дорівнює 2,13. Різницю в розміщенні мінімуму смуги відбивання плівок та кристалу в ІЧ області спектру пояснено наявністю механічних напружень розтягу та впливом сильнолегованоїпідкладки n-Si (111) на ІЧ-відбивання плівок AlN. Досліджено оптичні властивості плівок BN/n-Si(100) (спектри відбивання та пропускання в діапазоні 0,2 -25 мкм ). Визначена ширина забороненої зони - 4,6 еВ, коефіцієнт поглинання - 3,5 · 10 4 см -1, та коефіцієнт пропускання - більше 80%. Визначені оптичні параметри та аналіз спектрів показали, що отримані плівки нітриду бору загалом відповідають гексагональній структурі гратки h-BN. Зроблено огляд літератури, яка стосується актуальності технологічних розробок отримання, дослідження та перспектив практичного застосування наноструктурованих плівок (шарів ) BN. Опис продукції Автори роботи В.Б. Лозінський В.Г. Бойко М.І. Клюй М.С. Заяць Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити