Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0212U008710, 0112U007301 , Науково-дослідна робота Назва роботи Вплив температурних режимів опромінення на радіаційну стійкість та ресурс полікристалічного вольфраму Назва етапу роботи Керівник роботи Галуза Олексій Анатолійович, Дата реєстрації 08-01-2013 Організація виконавець Інститут електрофізики і радіаційних технологій НАН України Опис етапу Робота присвячена дослідженню впливу бомбардування іонами дейтерію на структуру та оптичні властивості поверхні зразків дзеркал з рекристалізованого вольфраму. Опромінення проводились при різній температурі зразків у інтервалі 300-700 К. Основними методиками були еліпсометрія, рефлектометрія й мікроінтерферометрія. Виявлено, що температурна залежність оптичних властивостей рекристалізованого вольфраму, що опромінено, має аномальну особливість біля температури 535 К. Показано, що при цій температурі значення коефіцієнту відбиття, одержані за допомогою рефлектометрії, та розраховані за даними еліпсометрії, якісно розрізняються. У роботі запропоновано фізична модель цього ефекту. Опис продукції Еліпсометрія - це метод вивчення поверхні різноманітних тіл по зміні стану поляризації світового пучка при відбитті від цієї поверхні. Геометрія PSA-схеми еліпсометричного експерименту, а саме вона реалізована в існуючому обладнанні, дає змогу визначати оптичні константи досліджуваного матеріалу. Стан поляризації електромагнітної хвилі може бути описано вектором Джонса, компонентами якого є комплексні амплітуди проекцій хвилі на координатні вісі. Компоненти вектора Джонса деякої хвилі дають можливість одержати значення інтенсивності випромінювання. Автори роботи Беляєва Алла Іванівна Пойда Андрій Володимирович Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити
НДДКР ОК
Керівник: Галуза Олексій Анатолійович. Вплив температурних режимів опромінення на радіаційну стійкість та ресурс полікристалічного вольфраму. (Етап: ). Інститут електрофізики і радіаційних технологій НАН України. № 0212U008710
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-17