Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0214U005550, 0112U001701 , Науково-дослідна робота Назва роботи Технологічні основи створення теплоізоляційних нанорозмірних оксидних покриттів на поверхнях оптичних діелектриків комбінованим термовакуумним осадженням Назва етапу роботи Керівник роботи Бондаренко Максим Олексійович, Кандидат технічних наук Дата реєстрації 28-01-2014 Організація виконавець Черкаський державний технологічний університет Опис етапу Метою роботи є розробка технологічних основ отримання на поверхнях оптичних діелектриків методом термічного вакуумного осадження нанорозмірних оксидних покриттів з підвищеними теплоізоляційними властивостями. В результаті виконання роботи удосконалене технологічне обладнання, що дозволило отримувати нанорозмірні оксидні покриття на діелектричних матеріалах з поліпшеними термоізоляційними властивостями; розроблена нова методологія отримання тонких та ультратонких оксидних покриттів на оптичних діелектриках з підвищеними техніко-експлуатаційними характеристиками та нова комбінована методика визначення теплових витрат виробів із залученням стаціонарного методу плоского шару в результаті роботи якої були встановлені нові дані про зменшення теплових витрат через оксидні покриття: TiO2 в 1,05-1,32 рази; Al2O3 в 1,13-1,8 рази; ZrO2 в 1,5-2,33 рази, а також залежність теплового опору діелектрика від товщини оксидного покриття; вперше отримана залежність зміни мікротвердості оксидних покриттів (TiO2, Al2O3, ZrO2) на оптичному склі К8 після електронно-променевої модифікації від їх товщини: TiO2 в 1,24 рази; Al2O3 в 1,15 рази; ZrO2 в 1,1 рази. Вперше встановлено, що оксидні покриття на поверхнях діелектричних матеріалів підвищують термін експлуатації діелектриків в середньому на 30-40%, а зносостійкість на 8-13%. Ключові слова: тонке оксидне покриття, впорядкована наноструктура, оптичний діелектрик, комбіноване термовакуумне осадження, електронно-променева технологія, растрова електронна мікроскопія, атомно-силова мікроскопія. Опис продукції В результаті виконання роботи розроблена нова технологія отримання тонких та ультратонких покриттів на діелектричних оптичних поверхнях методом вакуумного термічного осадження та визначені оптимальні режими комбінованого термовакуумного осадження нанорозмірних покриттів оксидів SnO2, Bi2O3, TiO2, ZnO, SiO2, Al2O3, що призводять до підвищення техніко-експлуатаційних характеристик та працездатності цих покриттів. Сама розробка полягає у модифікуванні комбінованого електронно-променевого обладнання та розробці методик отримання та дослідження, а також на вдосконаленій експериментально-статистичній моделі з залученням методу планування багатофакторного експерименту на основі якої створено алгоритм прогнозування оптимальних режимів отримання нанорозмірних оксидних покриттів на поверхнях оптичних діелектриків. Автори роботи Бондаренко Максим Олексійович Бондаренко Юлія Юріївна Ващенко Вячеслав Андрійович Канашевич Георгій Вікторович Кириченко Оксана В'ячеславівна Коваленко Юрій Іванович Мартієнко Антоніна Іванівна Скорина Євгенія Вікторівна Холоменюк Інна Миколаївна Яценко Ірина В'ячеславівна Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити