Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0215U001173, 0111U010006 , Науково-дослідна робота Назва роботи Взаємодія електромагнітних хвиль та пучків заряджених частинок із багатокомпонентною плазмою та матеріалами в пристроях термоядерного синтезу Назва етапу роботи Керівник роботи Гірка Ігор Олександрович, Дата реєстрації 30-01-2015 Організація виконавець Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна Опис етапу Об'єкт дослідження – поверхневі циклотронні Х-моди. Метою роботи є теоретичне дослідження впливу поширення власних Х-мод на другій гармоніці циклотронних частот на підтримання газового розряду у плазмі та можливість їх збудження змінним електричним полем. Задачу розв'язано шляхом застосування сучасних методів теоретичного аналізу та числового моделювання на ЕОМ, числове моделювання включало числове розв'язання рівняння Фоккера-Планка та використання повнохвильового числового коду TORIC, експериментальні дослідження проводились методами оптичної спектроскопії та рентгенівської фотоелектронної спектроскопії. Розроблено нову теорію поверхневих циклотронних Х-мод (ПЦХМ) у неоднорідній магнітоактивній плазмі. Знайдено аналітичні вирази для власних частот цих мод; встановлено, що їхній декремент загасання через зіткнення між частинками плазми є більшим за декремент кінетичного загасання, що наявність діелектричного прошарку між металевою стінкою камери та плазмою, яка утримується в ній, не впливає на дисперсійні властивості ПЦХМ, змін зазнає лише просторовий розподіл тангенціальної складової електричного поля ПЦХМ. Здобуто та проаналізовано рівняння балансу енергії ПЦХМ, обчислено об'єм плазми, який може підтримуватися у газовому розряді за рахунок поширення ПЦХМ. Встановлено, що для збільшення об'єму плазми, який підтримується у такому розряді, можна збільшити величину зовнішнього магнітного поля, довжину хвилі та зменшити товщину захисного діелектричного покриття на внутрішній стінці металевої розрядної камери. Досліджено параметричний вплив зовнішнього змінного електричного поля на збудження ПЦХМ. На прикладі японського термоядерного пристрою LHD доведено, що одночасне використання генераторів, чиї робочі частоти співвідносяться як натуральні числа, стає можливим керувати цією нестійкістю. Розроблено теорію перехідних режимів нагрівання плазми між режимом іонів малої добавки та режимом конверсії мод. Показано, як зміна концентрації домішки впливає на режим нагрівання. Експериментально досліджені оптичні властивості компаундних шарів, одержаних при імплантації іонів міді в діелектричні підкладки. Розроблений алгоритм аналізу спектрів оптичного пропускання та відбиття дав можливість визначити склад компаундних шарів у залежності від густини іонного струму при імплантації. Залежність електронної структури матеріалу діелектричної підкладки від умов його одержання, наявності домішок та опромінення досліджувалась на прикладі монокристалів та кераміки магній алюмінієвої шпінелі. Показано, що за термодинамічно-рівноважних умов вирощування та легування можна одержати підкладки з низьким рівнем дефектів антистуктури. Дослідження кінетики зростання та загасання рентген стимульованої люмінесценції в цих діелектричних кристалах дали можливість визначити, що значна частина дефектів анти структури є просторово корельованими. Це спричиняє високу радіаційну стійкість кристалів шпінелі і перспективність використання цього матеріалу для створення компаундних матеріалів для пристроїв, які працюють за умов опромінення. Опис продукції Розроблено нову теорію поверхневих циклотронних Х-мод (ПЦХМ) у неоднорідній магнітоактивній плазмі. Знайдено аналітичні вирази для власних частот цих мод; встановлено, що їхній декремент загасання через зіткнення між частинками плазми є більшим за декремент кінетичного загасання, що наявність діелектричного прошарку між металевою стінкою камери та плазмою, яка утримується в ній, не впливає на дисперсійні властивості ПЦХМ, змін зазнає лише просторовий розподіл тангенціальної складової електричного поля ПЦХМ. Здобуто та проаналізовано рівняння балансу енергії ПЦХМ, обчислено об'єм плазми, який може підтримуватися у газовому розряді за рахунок поширення ПЦХМ. Встановлено, що для збільшення об'єму плазми, який підтримується у такому розряді, можна збільшити величину зовнішнього магнітного поля, довжину хвилі та зменшити товщину захисного діелектричного покриття на внутрішній стінці металевої розрядної камери. Досліджено параметричний вплив зовнішнього змінного електричного поля на збудження ПЦХМ. На прикладі Автори роботи Гірка І.О. Гірка В.О. Грицина В. Павленко І. Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити