Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0217U001691, 0112U002094 , Науково-дослідна робота Назва роботи Дослідити механізми формування наноструктури та її впливу на властивості надтвердих магнетронних покриттів і напівпровідникових плазмохімічних плівок Назва етапу роботи Керівник роботи Іващенко Володимир Іванович, Доктор фізико-математичних наук Дата реєстрації 24-03-2017 Організація виконавець Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М.Францевича НАН України Опис етапу Об'єкт дослідженя - надтверді покриття та напівпровідникові пплівки на основі NbN, NbC, SiNx SiC, SiCN, AlN, їх структурні, механічні та оптоелектронні властивості. Мета роботи полягає у вивченні механізмів формування наноструктури і її впливу на структурні, механічні і оптоелектронні властивості плівок на основі зазначених тугоплавких сполук. Методи дослідження: установка для дуального магнетронного розпилення, плазмохімічна установка. Були синтезовані і всебічно вивчені магнетронні нанокомпозитні Nb-Si-N , Nb-Al-N , Nb-Si-C покриття; наношаруваті TiN/SiC , AlN/BNC покриття; магнетронні Si-C-N плівки, плазмохімічні Si-C-N плівки. Встановлені оптимальні режими осадження покриттів і плівок. Встановлено, що нанотвердість і твердість по Кнупу наноструктурованих покриттів сягають 35-40 ГПа та понад 56 ГПа, відповідно. Нанотвердість Si-C-N плівок складає понад 36 ГПа. На основі першопринципних розрахунків запропоновано матеріали для покриттів систем Al-Mg-B, Ti-Si-C. Запропоновано структурні моделі інтерфейсів у нанокомпозитних і наношаруватих покриттях. Результати досліджень показують, що магнетронні плівки можуть бути використані як зносостійкі і захисні покриття. Зважаючи на оптоелектронні властивості, високу твердість та низький коефіцієнт тертя, аморфні Si-C-N плівки рекомендовано до застосування в напівпровідникових приладах та мікоелектромеханічних системах (МЕМС). Опис продукції Об'єкт дослідженя - надтверді покриття та напівпровідникові пплівки на основі NbN, NbC, SiNx SiC, SiCN, AlN, їх структурні, механічні та оптоелектронні властивості. Мета роботи полягає у вивченні механізмів формування наноструктури і її впливу на структурні, механічні і оптоелектронні властивості плівок на основі зазначених тугоплавких сполук. Методи дослідження: установка для дуального магнетронного розпилення, плазмохімічна установка. Були синтезовані при різних режимах і всебічно вивчені магнетронні нанокомпозитні Nb-Si-N , Nb-Al-N , Nb-Si-C покриття; наношаруваті TiN/SiC , AlN/BNC покриття; магнетронні Si-C-N плівки, плазмохімічні Si-C-N плівки. Встановлені оптимальні режими осадження покриттів і плівок. Зокрема, встановлено, що нанотвердість і твердість по Кнупу наноструктурованих покриттів сягають 35-40 ГПа та понад 56 ГПа, відповідно. Нанотвердість Si-C-N плівок складає понад 36 ГПа. На основі першопринципних розрахунків запропоновано матеріали для покриттів систем Al-Mg-B, Ti-Si-C. Запропонова Автори роботи Є.Я. Тельніков Є.Я. І. І. Тімофєєва А. В. Осадча А. М. Ковальченко А.О. Козак В. І. Шевченко В. М. Гранько Л. А. Іващенко М. А. Васильківська О. І. Биков О. І. Оліфан О. К. Марчук О. К. Порада О. О. Онопрієнко О. О. Ситіков П. Л. Скринський С. В. Гуменюк С. Ф. Корічєв Т. М. Павлиго Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити