Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0218U003671, 0117U007244 , Науково-дослідна робота Назва роботи Технологія осадження тонких напівпровідникових та діелектричних плівок для прозорої електроніки Назва етапу роботи Керівник роботи Коваль Вікторія Михайлівна, Кандидат технічних наук Дата реєстрації 15-06-2018 Організація виконавець Науково-дослідний інститут прикладної електроніки Національного технічного університету України "КПІ" Опис етапу Об'єкт дослідження - багатошарові прозорі структури, що були осаджені на скляні або кварцеві підкладки. Предмет дослідження - дослідження електричних та фоточутливих властивостей отриманих тонкоплівкових структур на прозорих підкладках. Мета роботи - дослідити процес осадження напівпровідникових, металевих та діелектричних плівок на скляні підкладки для застосування їх у прозорих сонячних елементах. Методи дослідження - осадження тонких напівпровідникових, металевих та діелектричних плівок на скляні підкладки здійснювалось методами електронно-променевого випаровування, ВЧ-магнетронного розпилення та іонно-променевого розпилення, характеристики плівок досліджувались методом вольт-амперних характеристик, люкс-амперних характеристик та оптичних спектрів пропускання. В першому розділі подано огляд літератури, в якому розглядається аналіз існуючих технологій осадження напівпровідникових тонких плівок. В другому розділі роботи проводився огляд актуальності тонких прозорих фотоелементів в сучасному часі, подано перелік застосувань в певних галузях, в яких використовуються прозорі тонкоплівкові ФЕП. В третьому розділі наведено технологічний маршрут виготовлення тонкоплівкових структур на прозорих підкладках, та дослідження їх електричних та оптичних характеристик. Опис продукції Технологія синтезу тонких прозорих або напівпрозорих напівпровідникових, металевих та діелектричних плівок полягає у використанні методу електронно-променевого випаровування кремнієвого сплаву та методу іонно-променевого розпилення кремнієвої мішені у визначеному діапазоні температур та часів осадження для синтезу активних шарів приладів для прозорої електроніки. Автори роботи Коваль Вікторія Михайлівна Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити
НДДКР ОК
Керівник: Коваль Вікторія Михайлівна. Технологія осадження тонких напівпровідникових та діелектричних плівок для прозорої електроніки. (Етап: ). Науково-дослідний інститут прикладної електроніки Національного технічного університету України "КПІ". № 0218U003671
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-15