Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0220U100196, 0116U005093 , Науково-дослідна робота Назва роботи Захист цирконієвих оболонок тепловиділяючих елементів ядерних реакторів карбідом кремнію, отримання полікристалічного кремнію відновленням тетрахлориду атомарним воднем, осадження епітаксійних структур газофазним, плазмохімічним і сублімаційним методами Назва етапу роботи Керівник роботи Широков Борис Михайлович, Доктор технічних наук Дата реєстрації 13-01-2020 Організація виконавець Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" НАН України Опис етапу Виконано дослідження по отриманню полікристалічного і гідрогенізованого кремнію шляхом водневого відновлення SiCl4 в низькотемпературній нерівноважній плазмі. Проведено осадження гідрогенізованого кремнію. Присутність в спектрах оптичних досліджень в інфрачервоному діапазоні смуг поглинання Si-H і Si-Si свідчить про двохфазний склад осаджених плівок - кристалічний і аморфний. Маючи високу чутливість і стійкість до сонячного випромінювання, отримані плівки можуть бути використані в перетворювачах сонячної енергії та електронній техніці. Опис продукції Виконано дослідження по отриманню полікристалічного та гідрогенізованого кремнію з моносилану, який утворювався шляхом розкладання SiCl4 (побічного продукту реакції «Сіменс-процесу») в середовищі атомарного водню. Автори роботи Євсюков Олексій Ігоревич Бакай Катерина Сергеевна Дериземля Анатолій Миколайович Журавльов Олександр Юрьевич Зуєва Тетяна Миколаївна Капустін Віталій Леонідович Крохмаль Сергій Олександрович Мартиненко Віктор Григорович Пелипець Юрій Олександрович Радченко Володимир Іванович Стригуновський Сергей Васильович Суща Аліна Анатоліївна Хижняк Дмитро Олександрович Шиян Олександр Васильович Щербакова Валентина Володимирівна Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити
НДДКР ОК
1
Керівник: Широков Борис Михайлович. Захист цирконієвих оболонок тепловиділяючих елементів ядерних реакторів карбідом кремнію, отримання полікристалічного кремнію відновленням тетрахлориду атомарним воднем, осадження епітаксійних структур газофазним, плазмохімічним і сублімаційним методами. (Етап: ). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" НАН України. № 0220U100196
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-16