Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0220U104787, 0120U102286 , Науково-дослідна робота Назва роботи Створення обладнання та процесів синтезу функціональних наноструктурних вуглецевих покриттів з фільтрованої вакуумно-дугової плазми на вироби великого розміру та складної форми Назва етапу роботи Керівник роботи Стрельницький Володимир Євгенійович, Доктор фізико-математичних наук Дата реєстрації 27-12-2020 Організація виконавець Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України Опис етапу  Звіт про НДР: 54 с., 38 рис., 21 джерело. АЛМАЗОПОДІБНІ ПОКРИТТЯ, НАНОСТРУКТУРА, ВАКУУМНО-ДУГОВЕ ОСАДЖЕННЯ, ФІЛЬТРОВАНА ПЛАЗМА, ІОННЕ БОМБАРДУВАННЯ. Об`єкт дослідження –вакуумно-дугове осадження, структура та властивості наноструктурних вуглецевих покриттів. Мета роботи - розробка обладнання та процесів вакуумно-дугового синтезу антифрикційних вуглецевих покриттів високої якості для захисту поверхні деталей складної форми та великого розміру діаметром до 300 мм, що застосовуються в металообробці, машинобудуванні, аерокосмічній промисловості, медицині, мікромеханіці. Методи дослідження - магнітометрія, оптична інтерферометрія, математичне моделювання. Розроблено документацію на виготовлення обладнання для вакуумно-дугового осадження високоякісних вуглецевих покриттів на деталі великого розміру діаметром до 300 мм. Виготовлено вихідну електромагнітну котушку нової конструкції до джерела фільтрованої плазми. Виміряно розподіл транспортуючого магнітного поля. Індукція поля сягає 600 Гс при струмі 200 А. Використання магнітного концентратора дозволяє збільшити діаметр зони осадження покриття рівномірної товщини у 1,5 рази. Проведено оптимізацію елементів транспортуючої системи вакуумно-дугового джерела плазми з прямолінійним фільтром. Розрахунки магнітних потоків у програмі FEMM показали, що використання вихідної котушки розробленої конструкції дозволяє у 1,3 рази підвищити ефективність транспортування плазми до підкладки діаметром 300 мм. Оптимальний для транспортування плазми діапазон струмів вихідної котушки (40-140) А. Методом математичного моделювання досліджено вплив іонного бомбардування ростової поверхні та температури осадження на активацію радіаційно-стимульованих процесів синтезу алмазоподібних покриттів. В моделі нелокального термопружного піка іона з урахуванням процесів розпилення при різних кутах падіння іонів розраховані залежності внутрішніх напружень та швидкості росту від параметрів осадження при постійному та імпульсному потенціалі на підкладці. Опис продукції Автори роботи Аксьонов Дмитро Сергiйович Васильєв Володимир Васильович Калініченко Олександр Іванович Лучанінов Олександр Андрійович Решетняк Олена Миколаївна Додано в НРАТ 2020-12-26 Закрити