Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0222U005283, 0121U110102 , Науково-дослідна робота Назва роботи Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні. Назва етапу роботи Керівник роботи Руденький Сергій Георгійович, Доктор технічних наукСтолбовий В'ячеслав Олександрович, Дата реєстрації 27-12-2022 Організація виконавець Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України Опис етапу  Звіт про НДР: 41 сторінка, 5 рисунків, 6 таблиць, 38 посилань. ВАКУУМНЕ АКТИВОВАНЕ ДИФУЗІЙНЕ НАСИЧЕННЯ, ГАЗОФАЗНЕ ОСАДЖЕННЯ, ЗАХИСНІ ПОКРИТТЯ, СТАЛІ, ТУГОПЛАВКІ МЕТАЛИ, ВУГЛЕЦЕВІ МАТЕРІАЛИ. Метою досліджень є розробка процесів створення комплексних шарів на сталі 25Х1МФ, Nb, вуглецевому матеріалі МПГ-7 для збільшення їх стійкості в умовах експлуатації з подальшим розширенням застосування розробки на відповідні класи матеріалів. Використовували комплексний підхід при застосуванні метода вакуумного активованого дифузійного насичення із спеціально виготовлених сумішей, зокрема для сталі 25Х1МФ на основі Cr, а для інших матеріалів багатокомпонентного складу. Розроблений спосіб забезпечив збільшення стійкості сталі 25Х1МФ в три рази порівняно із вихідними зразками. Для Nb одержано збільшення жаростійкості поверхневого шару зразків від 1,5 до 7 разів в залежності від складу використовуваного шлікера. Для зразків із графіту МПГ-7 при використанні шлікера складу 35WSi2+30HfB2+20ZrSi2+8Ni+5B+2Al ваг.% одержано жаростійкість протягом 10 г. в умовах дії атмосфери і температури 1700 °С. Проведено обчислення параметрів процесу формування танатлових покриттів із пентахлориду танталу. Опис продукції Автори роботи Іванова Світлана Олександрівна Ільченко Нора Сосівна Андреєв Анатолій Опанасович Баранков Михайло Якович Бредіхін Михайло Юрійович Гетман Валентина Федорівна Громова Галина Олексіївна Долик Наталя Василівна Доломанов Андрій Валентинович Змій Віктор Іванович Карцев Микола Федорович Коваленко Володимир Іванович Ковтеба Дмитро Володимирович Коновалов Ігор Іванович Корнєєв Олександр Олександрович Корнієнко Валентина Григорівна Кривошапка Руслан Васильович Кунченко Олексій Вікторович Кунченко Юрій Вікторовтч Литвяк Аліна Костянтинівна Лукирський Юрій Валентинович Ляшенко Ігор Андрійович Маринін Володимир Григорович Мартиненко Людмила Іванівна Мирошниченко Костянтин Вікторович Павленко Володимир Іванович Рак Василь Ілларіонович Рижова Тетяна Петрівна Руденький Сергій Георгійович Сердюк Ірина Віталіївна Серченко Марина Павлівна Соловіченко Юрій Михайлович Столбовий В'ячеслав Олександрович Шарапова Тетяна Іванівна Додано в НРАТ 2022-12-27 Закрити
НДДКР ОК
Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.
Керівник: Руденький Сергій Георгійович. Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.. (Етап: ). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0222U005283
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-16


Роздрукувати цю сторінку