Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0300U000274, 0199U003583 , Науково-дослідна робота Назва роботи Розробка технології та вакумного уcтаткування нового поколінння для формуванння наноcтруктур методом напилення в вакуумі Назва етапу роботи Розробка технологічної cхеми напилення та розробка cиcтеми іоннізації магнетронного джерела Керівник роботи Крупа Микола Миколайович, Дата реєстрації 22-02-2000 Організація виконавець Інститут магнетизму НАН України Опис етапу 1.Розроблена блок-схема та структурна схема автоматизованої вакуумної установки для напилення наноструктур. Сформульовані основні технічні вимоги до систем та блоків установки. Проведені дослідження впливу технологічних параметрів процесу напилення та складу наномірних аморфних і багатошарових плівок TbFeCo, а також багатошарових плівок Co/Cu та гранульованих плівок CoCu, CoAg i CoAl O на їх магнітоптичні та магніторезитивні характеритики.Підготовлен науково-технічний звіт 2. Разработана блок-схема и структурная схема автоматизированной вакуумной установки для напыления нанотруктур. Сформулированы оновные технические требоваия к системам и блокам уcтановки. Проведены исследования влияния технологических параметров процесса напыления и состава наномерных аморфных и многослойных пленок TbFeCo, а также многоcлойных пленок Со Сu, CoAg и CoAl O на их магнитооптичекие и магниторезистивные характеристики. Подготовлен научно-технический отчет. 3.Block-scheme and structural flowchart of aut omated vacuum nanostructure deposition system were developed. Main specifications for system units and blocks were formulated. Investigations of the effect of deposition process technological parameters and composition of nanodimensional amorphous and multilayered TbFeCo films, multilayered Co/Cu and granular CoCu, CoAg and CoAl O films on their magnetooptical and magnetoresistive characteristics were carried out. Scientific and technical report was prepared. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-03 Закрити