Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0302U005143, 0100U003304 , Науково-дослідна робота Назва роботи Вивчення процесів плазмохімічного формування покриттів в умовах дії на поверхню конденсації потоків заряджених часток Назва етапу роботи Накопичення експериментальних даних по впливу на кінетику плазмохімічного формування потоків заряджених часток різної енергії та густини Керівник роботи Сагалович В.В., Дата реєстрації 25-03-2002 Організація виконавець Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна Опис етапу Об'єкт дослідження — процеси формування покриттів стехіометричного складу при розпиленні металевих мішеней у сумішах інертного та реакційного газів. Мета роботи — більш детальне з'ясування умов одержання покриттів "метал-металоїд" стехіометричного складу реактивним магнетронним напиленням. Проведено теоретичне дослідження процесів взаємодії реакційного газу з поверхнею мішені та з поверхнею конденсації при реактивному магнетронному напиленні покриттів складу "метал=металоїд". Одержано в аналітичному вигляді залежності між параметрами розпилення мішені і процесами плазмохімічного утворення на її поверхні з'єднань "метал-металоїд" та формування покриттів відповідного складу. Результати цих досліджень дозволяють пояснити експериментально відомий факт близькості або співпадання області параметрів реактивного магнетронного напилення покриттів стехіометричного складу з областю нестабільності процесу розпилення мішені, а також дають змогу визначити ці області параметрів і їх залежність як від характеристик обладнання (продуктивності засобів відкачки, загальної поверхні камери і поверхні конденсації покриття, поверхні мішені, тощо), так і параметрів ведення процесу напилення (величини потоків рабочого та реактивного газів, струму розряду). Проведено аналіз експериментальних даних по одержанню покриттів AlN, Al2o3, TiN, TiO2 стехіометричного складу або близького до нього, які показали, що, попри усі відмінності у обладнання та інших параметрів процесу, значення тиску реакційного газу, при якому одержували ці покриття, мають розбіжність у межах одного порядку по величині. Результати НДР використані при визначенні параметрів оптимізації процесів реактивного магнетронного напилення покриттів у технологічних розробках та подальших дослідженнях, спрямованих на одержанні покриттів з наперед заданими властивостями. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити