Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 0303U001479, 0101U001566 , Науково-дослідна робота Назва роботи Фізичні основи впливу адсорбційно-емісійних процесів на формування функціонально важливих параметрів гетерофазних напівпровідникових сенсорних структур для систем контролю в біоінженерії та енергокомплексі Назва етапу роботи Дослідження газової чутливості контактних структур на основі кремнію та оксиду олова Керівник роботи Ільченко В.В., Дата реєстрації 20-03-2003 Організація виконавець Київський національний університет імені Тараса Шевченка Опис етапу Робота присвячена дослідженню фізичних закономірностей газочутливих структур на основі гетерофазних систем. Досліджено вплив товщини та щільності плівок на поверхні кремнію в таких структурах на особливості вольт-амперних характеристик та їх других похідних в газовому середовищі. Розглянуті фізичні моделі цього впливу Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити
НДДКР ОК
Керівник: Ільченко В.В.. Фізичні основи впливу адсорбційно-емісійних процесів на формування функціонально важливих параметрів гетерофазних напівпровідникових сенсорних структур для систем контролю в біоінженерії та енергокомплексі. (Етап: Дослідження газової чутливості контактних структур на основі кремнію та оксиду олова). Київський національний університет імені Тараса Шевченка. № 0303U001479
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-19