Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0304U004115, 0103U004193 , Науково-дослідна робота Назва роботи Дослідження синтезу нанокомпозитних матеріалів у автоматизованих сильнострумових вакуумно-плазмових системах Назва етапу роботи Розробка, створення та експериментальні дослідження макетних зразків сильнострумових іонно-плазмових систем та діагностичних пристроїв Керівник роботи Бізюков О.А.; Целуйко О.Ф., Дата реєстрації 20-03-2004 Організація виконавець Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна Опис етапу Мета проекта - експериментальні і теоретичні дослідження фізико-хімічних основ синтезу нанокомпозитних матеріалів у вакуумно-плазмових установках на основі сильнострумових газових розрядів з автоматизованими комп'ютерними системами керування технологічними процесами у реальному масштабі часу для розробки методик одержання нанокомпозитних структур із заданими властивостями. Об'єкт дослідження - методи одержання щільної плазми робочих речовин у сильнострумових магнетронному, дуговому та плазмово-пучковому газових розрядах, способи формування та прискорення потоків заряджених частинок на поверхню, що оброблюється, методи діагностики та датчики системи автоматизації для контролю параметрів технологічного плазмового середовища. Експериментально досліджена динаміка формування потоків заряджених і нейтральних частинок в іонно-променевій розпилювальній системі (ІПРС) на базі одноступінчатого холлівського прискорювача з анодним шаром. Показано, що ІПРС має ряд переваг у порівнянні зі звичайними системами розпилення. Зокрема, досліджена система дозволяє ефективно розпилювати як провідникові матеріали з низьким коефіцієнтом розпилення, такі як графіт, так і діелектричні матеріали за рахунок використання ефекту автокомпенсации іонного пучка без використання нейтралізаторів. Швидкість осадження покриттів у ІПРС регулюється шляхом зміни енергії, струму і кута падіння іонів, що бомбардують мішень, яка розпилюється, що особливо важливо при проведенні осадження покриттів з низькими швидкостями при зниженому робочому тиску. Кількість і енергія іонів і вторинно-емісійних електронів в області транспортування розпилених атомів можуть керуватися зміною напруги зсуву мішені, яка розпилюється. Це дозволяє здійснювати додаткове іонне, іон-електронне чи електронне бомбардування покриттів, що осаджуються, і використовувати її для синтезу алмазоподібних вуглецевих покриттів методом іонно-променевого розпилення графітової мішені. Розроблено та досліджено нове джерело твердотільних іонів на базі магнетронної розпилювальної системи. В джерелі іони робочого газу використовуються для бомбардування та розпилення циліндричної мішені, яка може бути вироблена з будь-яких немагнітних металів та сплавів, або з діелектричних. Розпилені атоми можуть бути іонізовані та екстраговані іонно-оптичною прискорюючою системою. Дослідження показали, що джерело може стабільно працювати протягом довгого часу без істотного розрушення розпилювальної мішені. За допомогою джерела отримані змішані іонні потоки, які складаються з різноманітних твердотільних іонів (B, C, Si, Ti, V, Fe, Ni, Ta, W) та іонів робочого газу. Розроблена і досліджена потужнострумова імпульсна магнетронно-розпилювальна система (МРС). Досліджено режими її роботи. Встановлено особливості переходу МРС із магнетронного розряду в дуговий. Показано, що МРС в імпульсному режимі є універсальною системою, що дозволяє здійснитити як магнетронне, так і вакуумно-дуговое осадження покриттів. Проведено порівняльні технологічні іспити системи при різних типах розряду. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити