Search academic texts

Information × Registration Number 0407U005073, Candidate dissertation Status к.ф.-м.н. Date 27-11-2007 popup.evolution o Title Molecular dynamics simulations of ion induced sputtering of surface metal clusters Author Pugina Katerina Vitaliivna, popup.head Kornich Grigoriy Vladimirovich popup.opponent Ченакін Сергій Петрович popup.opponent Яновський Олександр Сергійович Description Молекулярна динаміка. Потенціал міжатомної взаємодії. Коефіцієнт розпилення. Кластер. Підкладинка. Каскад атомних зіткнень. Досліджено механізми іонного розпилення поверхневих металевих кластерів. В якості методу дослідження застосовано метод молекулярної динаміки. Виконано молекулярно-динамічне моделювання розпилення іонами аргону низьких енергій (200 еВ) металевих кластерів (Cu, Au) з поверхонь металевих монокристалічних підкладинок (Cu, Au). Отримано, що при іонному розпиленні поверхневих металевих кластерів мають місце напрямки переважного виходу розпилення атомів з кластерів. Встановлено, що підкладинка при цьому має визначний вплив на формування цих напрямків, так як саме взаємодія з підкладинкою визначає структуру поверхневого кластера. Отримано також, що підкладинка грає роль енергетичного стоку для каскадних атомів кластера. Визначено залежність процесу розпилення кластера від його геометрії. Досліджено вплив температури на розпилення поверхневих нанокластерів й показано, що теплові коливанняатомів призводять до дефокусування атомів, розпилених з поверхневих кластерів. Показано, що невідповідність значень сталих кристалічної ґратки матеріалу кластера і підкладинки в двокомпонентних системах кластер-підкладинка призводить до зменшення інтенсивності розвитку каскаду атомних зіткнень, порівняно з однокомпонентною системою. Registration Date 2007-11-27 popup.nrat_date 2020-04-04 Close