Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0413U003353, Кандидатська дисертація На здобуття к.т.н. Дата захисту 13-05-2013 Статус Запланована Назва роботи Вплив параметрів магнетронного осадження та товщини молібденового шару на структурні перетворення в багатошарових покриттях Mo/Si Здобувач Севрюкова Вікторія Анатоліївна, Керівник Зубарєв Євгеній Миколайович Опонент Гугля Олексій Григорович Опонент Береснєв В'ячеслав Мартинович Опис Об'єкт: тришарові плівки Si/Mo/Si з товщиною молібденового шару від 0,1 до 30 нм і багатошарові періодичні покриття Mo/Si. Мета: встановлення взаємозв'язку між структурою, морфологією, хімічним складом проміжних фаз багатошарового покриття і параметрами магнетронного осадження для оптимізації режимів виготовлення багатошарових рентгенівських дзеркал Mo/Si. Методи: електронна мікроскопія з високим розділенням поперечних зрізів і в плані, рентгенівський фазовий аналіз, малокутова рентгенівська дифрактометрія з математичним моделюванням малокутових рентгенівських спектрів, вимірювання оптичних характеристик багатошарових рентгенівських дзеркал Mo/Si за допомогою синхротронного випромінювання. Результати: вперше методом темнопольної електронної мікроскопії виявлено, що при малій номінальній товщині шару молібдену 1,5 < tMoном < 1,9 нм, розпиленого методом магнетронного осадження на аморфний кремній, цей шар складається з кластерів розміром 1-2 нм. Показано, що процес переходу з аморфно-кластерного стану в кристалічний відбувається в інтервалі товщини 1,9 < tMoном < 2,5 нм, а не стрибком, як вважалося раніше. У середині даного інтервалу співіснують аморфно-кластерна і кристалічна фази. Галузь використання: фізика твердого тіла, фізика багатошарових систем Дата реєстрації 2013-05-13 Додано в НРАТ 2020-04-04 Закрити