Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0494U002349, Кандидатська дисертація На здобуття к.ф.-м.н. Дата захисту 22-12-1993 Статус Запланована Назва роботи Структура, кинетика и свойства твердофазных эпитаксиальных сленок образующихся в системах Здобувач Гончаров Александр Андреевич, Керівник Игнатенко П.И. Опонент Дворина Л.А. Опонент Гришин О.М. Опис Объект исследования: Изучение свойств и структур пленочных систем Ni-Si-O и Ni-Ta-O. Цель исследования: Выявление условий твердофазной эпитаксии образующихся соединений в системах Ni-Si-O и Ni-Ta-O. Методы исследования и аппаратура: Экспериментальные методы исследований структуры, морфологии, фазового и элементного анализа. Теоретические результаты и новизна: Теоретически рассчитаны эпитаксальные температуры SiO2 на NI и Ta2O5 на Ta. Практические результаты и новизна: Проведено сравнение электрографических, антикоррозионных и оптических свойств пленочных покрытий оксидов кремния и тантала. Предмет и степень внедрения: Используются как защитные покрытия. Эффективность внедрения: Внедрено. Сфера (область) использования: Физика твердого тела. Дата реєстрації 1993-12-22 Додано в НРАТ 2020-05-17 Закрити