Search academic texts

Information × Registration Number 0593U000356, Doctoral dissertation Status д.ф.-м.н. Date 24-09-1993 popup.evolution o Title Author Назаров Алексей Николаевич, popup.head Лысенко В.С. popup.opponent Литовченко В.Г. popup.opponent Жарких Ю.С. popup.opponent Дякин В.В. Description Объект исследования: Системы SiO2-Si, ионная имплантация, плазменно-водородная обработка, неравновесные обработки. Цель исследования: Выяснение природы процессов, происходящих при модификации кремниевых и диэлектричекских слоев с помощью ионной имплантации и плазменно-водородной обработки. Методы исследования и аппаратура: Термоактивационные методы, фотолюминесценция, КРС, ЭПР; спектрометры. Теоретические результаты и новизна: Разработана модкль ВЧ плазменного ускоренного отжига вакансионных днфектов. Практические результаты и новизна: Разработаны новые технологические способы низкотемпературного упорядочения дефектных полупроводниковых структур. Предмет и степень внедрения: Разработанные методы обработки используются в микроэлектронной промышленности. Сфера (область) использования: Технология полупроводниковых приборов и ИС. Registration Date 1993-03-13 popup.nrat_date 2021-03-17 Close