Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2109U000217, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи Диффузионные процессы и интерфейсное рассеяние электронов в пленочных системах на основе Cu/Fe и Fe/Cr Автор Дата публікації 01-01-2009 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/2651 Видання Изд-во СумГУ Опис Приведены результаты исследования диффузионных процессов методами ВИМС и ОЭС в пленочных системах Cu/Fe и Fe/Cr; изучено влияние температуры отжига на эффективные коэффициенты термодиффузии. Рассчитаны величины коэффициента прохождения электронами интерфейса и эффективные коэффициенты диффузии при различных процессах: конденсационно-стимулированной, ионно-стимулированной и термодиффузии. // Eng Investigation results of diffusion processes by the SIMS and the AES methods in Cu/Fe and Fe/Cr film systems are represented; influence of the annealing temperature on the effective thermal diffusion coefficients is studied. Values of the interface transmission coefficient and the effective diffusion coefficients in different processes, namely, the condensation-stimulate diffusion, the ion-stimulate one, and the thermal diffusion, are calculated. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/2651 Додано в НРАТ 2025-03-24 Закрити