Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2109U001446, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях TiNi в результате ионной имплантации Автор Дата публікації 01-01-2009 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/57567 Видання Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт" Опис В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N+, N+ и Ni+. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi. Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизированной микроструктуры, обогащенной Ti и Ni, под которым находится слой микрокристаллической структуры, обогащенный Ti. In work results researches of structure and chemical composition of NiTi, are presented after implantation, N+ and Ni+ the ions of N+. The model of processes, what be going on in the near-surface layers of NiTi is offered. Showed that a double layer, consisting of partly amorphous microstructure, enriched Ti and Ni, is formed in a near-surface layer, which a layer of microcrystalline structure is under, enriched Ti. Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити