Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2111U000784, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи The optimization of optical thin films deposition using in-situ reflectivity measurements and simulation Автор Дата публікації 01-01-2011 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22079 Видання Видавництво СумДУ Опис We have optimized and automated the experimental in-situ reflectivity measurement system for the laser diode (LD) facet coating. We have also developed a reflectivitysimulator program that gives the reflectivity data as a function of the thickness of the film (single or multi-layer) for a given wavelength, which aids in optimizing the above parameters while monitoring the coating of the films in-situ. We report the results for the in-situ reflectivity of a single layer MgF2 and a quarter-wave optical thick three bi-layer pairs of MgF2 and silicon on GaAs as a substrate for both the cases. We have achieved up to 83 % experimental reflectivity for the latter case. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22079 Додано в НРАТ 2025-03-24 Закрити