Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2112U001562, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Thesis Назва роботи Plasma Processing Reactor on a Base of Beam Plasma Discharge for Producing and Processing Nanomaterials Автор Дата публікації 01-01-2012 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35407 Видання Sumy State University Опис The paper describes the design, modes and applications of novel kind of low pressure plasma processing reactor based on beam plasma discharge as the plasma source. This reactor ensures flawless treatment of material surface as well as deposition of specific coatings with strictly defined energy of ions acting upon a treated surface. Applications of the reactor are represented such as defect-free etching heterostructures based on GaAs and producing structurally perfect samples of graphene. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35407 Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити