Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2113U001450, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Thesis Назва роботи Immersion Lithography with Using of Photostimulated Etching of Germanium Chalcogenide Films Автор Дата публікації 01-01-2013 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35630 Видання Sumy State University Опис The new effect of photo-stimulated dissolution of as-evaporated and annealed Ge-based chalcogenide glass (ChG) films was investigated. The etching rate increases with the illumination intensity, and its spectral dependence is correlated with absorption in the film at the absorption edge. The high-frequency diffraction gratings on germanium ChG - more environmentally acceptable compounds than traditionally used arsenic chalcogenides, were recorded by method of interference immersion photolithography with photoinduced etching. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35630 Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити