Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2113U001520, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Thesis Назва роботи Spectral Response of Indium Oxynitride Thin Films Автор Дата публікації 01-01-2013 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35081 Видання Sumy State University Опис In this work we study the electrical properties as spectral response, resistivity and quantum efficiency of nanostructured indium oxynitride deposited by reactive RF magnetron sputtering. This material shows multi-functionality in electrical and photonic applications. It shows transparency in visible range, wide band gap, high resistivity, low linkage current and response for light. The deposition processes were performed in a home build magnetron sputtering system, using a four-inch pure In (99.999 %) target, nitrogen and oxygen as process gases. The pressure was kept constant in 1.33 Pa and the RF power (13.56 MHz) was constant 250 W. The spectral response was estimated for samples deposited with 0 %, 10 %, 20 %, 50 %, 80 % and 85 % of oxygen concentration in the gas mixture. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35081 Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити