Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 2114U000968, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи RF Magnetron Sputtering of Silicon Carbide and Silicon Nitride Films for Solar Cells Автор Дата публікації 01-01-2014 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36380 Видання Sumy State University Опис RF-magnetron nonreactive sputtering method from solid-phase target in argon atmosphere was used for obtaining thin silicon carbide and silicon nitride films, that are used for constructing solar cells based on substrates of single crystal silicon of p-type. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36380 Додано в НРАТ 2025-03-24 Закрити
Матеріали
Стаття
RF Magnetron Sputtering of Silicon Carbide and Silicon Nitride Films for Solar Cells
RF Magnetron Sputtering of Silicon Carbide and Silicon Nitride Films for Solar Cells : публікація 2014-01-01; Сумський державний університет, 2114U000968
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-14


Роздрукувати цю сторінку